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低溫恒溫槽在冷卻裝置中的運用非常的,由于低溫恒溫槽在冷卻裝置的*的使用效能,讓很多的實驗實設備使用低溫恒溫槽。
*,對半導體制造裝置發熱部的冷卻:單晶片洗凈轉載、印刷機、自動夾座安裝裝置、噴涂裝置、離子鍍裝置、蝕刻裝置、單晶片處理裝置、切片機、包裝機、顯影劑的溫度管
理、露光裝置、生磁部分的加熱裝置等。
第二,對激光裝置發熱部分的冷卻:激光加工、熔接機的發熱部分、激光標志裝置、發生裝置、二氧化碳激光加工機等。
第三,其他產業用機器發熱部分的冷卻:等離子熔接、自動包裝機、模具冷卻、洗凈機械、鍍金槽、精密研磨機、射出成型機、樹脂成型機的成型部分等。
第四,分析檢測機器的發熱部分的冷卻: 電子顯微鏡的光源、ICP發光分光分析裝置的光源部分、分光光度計的發熱部分、X線解析裝置的熱源、自動脈沖調幅器的發熱部分原子吸
光光度計的光源等。水箱可用 的純凈水在機內外循環冷卻,可對水質要求較高的精密儀器的正常運行,延長精密儀器的使用壽命。